표면공학 [PVD]에 대해서
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작성일 20-04-26 19:12
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표면공학 [PVD]에 대해서
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표면공학 [PVD]에 대해서
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목 차
1. 서론
2. PVD법
2.1 PVD 란?
2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
3.4.1 강화된 스퍼터링
4. PVD 장비
5. 진공의 피료썽
6. 박막 성장 기구
7. PVD 코팅층의 미세구조
8. PVD 적용 예
9. 제조공정
10. 최근 연구 동향
1. 서 론
왜 이런 방식의 코팅을 하느냐?
이런 시계와 같은 경우 일반적인 코팅 (도장 따위의..)으론 감당이 안되기 때문에
심미성을 추가한 내마모성, 내소착성, 내식성, 내산화성을 주목하기 위해서!!
PVD를 이용한 코팅은 왜 하는가?
PVD
PVD 〓 Physical Vapor Deposition (물리증착법)
섭씨 150-500도 사이의 고 진공 상태에서 진행
고 순도 금속 코팅 재료는 열에 의한 기화 또는 이온 충격으로 기화되어
모재에 코팅
유입된 reaction 가스는 기상 상태의 금속과 reaction 하여 화합물을 형성하여 공구 또는 부품의 표면에 강한 밀착력을 가진 박막을 형성
균일한 코팅 두께를 형성하기 위하여 코팅 공정 시 여러 축에 치구된 제품들은 일정한 속도로 회전
2. PVD 의 원리
2. PVD 법
3. PVD 개요
PVD 란? 진공증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅을 총칭하는 용어
진공증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅의 원리
2. PVD 법
물리 증착(PVD)기술은 이온 도금과 스퍼터링(sputtering)과 같은 기화 기술로
이뤄지며 용도가 다양하며 증착할 수 있는 것도 실제로 모든 종류의 무기종류
(금속, 합금, 화합물과 그것의 혼합물)에도 몇몇의 유기재료들까지 가능하다.
